中頻磁控濺射是磁控濺射鍍膜的主流技術，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點是克服了陽極消失現(xiàn)象；減弱靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過程的工藝穩(wěn)定性，同時，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

l  沉積速率高，生產(chǎn)效率高；

l  工作穩(wěn)定，在靶材的壽命內(nèi)，可以實現(xiàn)長期穩(wěn)定的運行

l  膜層結(jié)構(gòu)致密，表面光滑，有效提高產(chǎn)品的耐鹽霧性、耐磨性及產(chǎn)品表面硬度，滿足了高性能膜層制備的需求。

        中頻磁控濺射鍍膜廣泛應用于鐘表首飾、廚衛(wèi)潔具、日用五金、電子產(chǎn)品、汽車配件等的裝飾膜，以及發(fā)動機用耐磨零件、刀具、模具等表面高硬度、抗磨損、抗腐蝕性膜的制備。

可制備TiN、TiCN、TiC、TiO2、TiAlN、CrN、ZrN、類金剛石薄膜等金屬化合物膜層，可鍍制金色、玫瑰金、仿金、咖啡色、槍黑色、銀白色、紫色、黑色、七彩色等顏色。

備注：設備可根據(jù)客戶要求定制。